俄罗斯开启光刻机生产从350nm到7nm技术进步如同夜空中的繁星

俄罗斯科技雄心：从350nm到7nm，自主光刻机项目如星辰大海

11月4日，俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak宣布，该国正积极研发光刻机，并预计在2024年开始生产350nm的设备。未来不远的2030年，计划推出用于生产130nm制程芯片的高端光刻机。

据Shpak表示，目前全球只有日本尼康和荷兰ASML两家公司能够生产此类先进设备，而俄罗斯有意改变这一局面。尽管目前仍然掌握65nm技术，但由于国际出口禁令，俄罗斯不得不加速开发本土光刻技术。

圣彼得堡理工大学研究人员已经成功开发了一种名为“国产光刻复合体”的新工具，这项技术可用于无掩模芯片制造，有助于解决微电子领域的技术主权问题。此外，还有一台未知成本的设备专门用于形成纳米结构，可制作舰载超压传感器硅膜。

据介绍，这些新型工具由专业软件控制，可实现完全自动化操作。至于未来的目标，诺夫哥罗德策略发展机构更是豪语连连，他们声称俄罗斯科学院旗下的应用物理研究所将在2028年之前突破所有人眼镜，不仅能生产7纳米芯片，而且还将击败ASML同类产品。

这些消息显示了俄罗斯在科技行业尤其是在半导体制造领域迅猛发展的决心，无疑为全球市场增添了一抹竞争色彩。在追求科技自主创新的大背景下，每一步都显得如此重要，每一项成果都可能成为改变世界格局的一枚棋子。