2025-02-23 行业资讯 0
在芯片制造的精细工艺中，光刻机就像是一位无形的匠人，它以极其微小的误差为目标，雕刻出每一颗芯片。然而，这项技术并不轻易被掌握。在全球半导体产业中，荷兰、美国和日本等国家已经成为这方面的领导者，而中国虽然也在努力追赶，但仍然面临着巨大的挑战。
2020年，一次重大机会似乎即将到来。当时，有消息称中国正计划从ASML订购数台EUV（极紫外）光刻机，以提升国产芯片制造能力。但是，由于疫情和美国制裁，这笔交易最终未能顺利进行。
直到最近，一家名为晶瑞股份的小型公司终于成功地购买了来自韩国的一台二手ASML浸没式光刻机。这台设备虽然不是最新款，但对当前中国芯片制造业来说，无疑是一个救星。它预计将帮助国产12英寸芯片项目取得进展。
尽管这一成果令人振奋，但它也揭示了中国面临的困难。一来，依赖国外购买高科技设备成本昂贵且不稳定；二来，在全球化背景下，即使是买入别人的余货，也要应对多方阻力；三来，更重要的是，即便获得了这些设备，其先进性与国内需求之间可能存在差距。
因此，对于实现自主可控和独立创新而言，研发本土光刻机至关重要。这不仅需要企业间合作，也需要政府部门提供支持。事实上，就在去年9月份，当美国发布了一份限制科技出口清单时，中国科学院表示，将把这个清单作为国家科研任务清单。这意味着未来，我们有望看到更多政策性的支持进入关键技术领域。
随着政企研发协同推进，我们期待中国能够在芯片制造领域取得突破，为国内经济发展注入新的活力。
