2025-01-26 行业资讯 0
1月28日，我收到了消息，据称佳能的高管在接受采访时谈到了他们最新的光刻机。他们表示，新款FPA-1200NZ2C设备采用纳米压印技术，将于今年或明年开始交付。
去年十月中旬，佳能宣布推出了基于纳米压印的FPA-1200NZ2C。这款设备能够制造5nm芯片，它们与使用传统光刻技术制造的芯片有所不同。佳能指出，这套设备并不依赖于复杂的传统光刻技术，而是运用一种更接近印刷技术的手段，将集成电路微观结构直接转移到硅晶圆上。
相比目前已商业化的EUV光刻技术，尽管纳米压印技术在速度方面落后，但它提供了其他优势。在2021年，我了解到铠侠曾提到过这项技术可以显著减少耗电量，并降低成本。原因是其制程相对简单，可将耗电量降至EUV技术的一半左右，同时让设备投资仅需EUV设备投资额度的一半。
此外，纳米压印设备还允许芯片制造商减少对ASML EUV光刻机的依赖，为台积电、三星等晶圆代工厂提供第二条生产小批量芯片的大道理，使得它们可以更加灵活地满足客户需求。
然而，在一次采访中，我注意到佳能CEO三井藤夫提出了一个限制，他表明可能无法将这些设备出口给中国。“我的理解是，”他说，“任何超过14nm 技术的出口都是被禁止的，所以我认为我们无法销售。”
