碳化硅外延革命ASM新机台引领PE2O8时代

全新推出的PE2O8碳化硅外延机台是对行业领先的ASM单晶片碳化硅外延机台产品组合（包含适用于6英寸晶圆的 PE1O6 和适用于8英寸晶圆的 PE1O8）的进一步增强。该机台采用独立双腔设计，兼容6英寸和8英寸晶圆，可实现增加产量的同时，降低成本。2024年10月16至18日，ASM先晶半导体亮相于深圳举办的首届湾芯展（SEMiBAY 2024）。在国际化合物半导体产业发展论坛上，ASM推出了最新推出的适用于碳化硅外延的新型双腔机台PE2O8。该产品专为满足先进碳化硅功率器件的制造需求而设计，是一款拥有低缺陷率和高工艺一致性的标杆性外延机台，可广泛应用于各类碳化硅器件的制造，在实现增加产量的同时，降低拥有成本。

随着电气化趋势不断演进，对于大功率器件需求与日俱增，这其中包括了电动汽车、绿色能源和数据中心等多个领域。而对于这些设备制造商来说，他们越来越需要通过使用更大的晶圆来减少生产成本，并提高效率。此时，碳化硅作为一种关键材料，其市场需求正迎来快速增长。

得益于其独特设计，PE2O8可以精确控制沉积过程，从而提升产量和吞吐量。此外，该设备还具有紧凑且独立双腔设计，这有助于保持高生产效率并减少运行成本。此设备甚至采用了简便预防性维护措施，以保证长时间稳定运行并减少停机时间。

目前，不同规模的大型客户已经开始接收到这个创新技术。这一点被Steven Reiter所强调，他是ASM公司副总裁兼等离子体与外延业务部门负责人：“当前，我们正处在一个转折点——从传统的小尺寸晶圆向更大的过渡中。在这一过程中，我们必须更加关注良率、工艺以及缺陷控制。”他继续说，“我们相信我们的新产品能够帮助我们的客户克服这些挑战。”

自2022年以来，由ASM领导的一个全新的团队一直致力于开发出能满足未来市场要求的一系列单片 碳基矽石沉积装置。伴随着全球对电动车辆结构性的需求增长，以及由此带来的对碳基矽石成品质量要求提高，全世界范围内对这类装备者的兴趣也正在逐步上升。

关于先驱半导体有限公司成立于1969年的荷兰，与全球半导体行业共同成长，并成为电子工业发展史上的重要力量。在过去五十多年的岁月里，它以原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)、化学气相沉积(CVD)及SiC等领域取得了卓越成就。如今，已设立分部在全球十六个国家与地区，并在泛欧证券交易所上市交易股票代码为：AMS。如果您想了解更多关于先驱半导体公司信息，请访问官方网站http://www.asml.com或微信搜索“ASML”。