科技行业资讯俄罗斯宣布正生产光刻机2024年350nm7nm技术即将实现反复突破

据11月4日消息，俄罗斯正在积极研发光刻机，并表示最快在2024年将实现生产。俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak指出，2024年将开始量产350nm光刻机，而2026年则计划启动用于130nm制程芯片生产的设备。

此举旨在打破目前全球只有日本尼康和荷兰ASML两家公司生产此类设备的局面。尽管俄罗斯已经掌握了使用外国制造设备的65nm技术，但由于被禁止进口现代光刻设备，他们正急速开发自己的产品。

圣彼得堡理工大学研究人员已成功开发出一种名为“国产光刻复合体”的新技术，该技术可用于无掩模芯片的生产，从而可能解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题。该装置由专业软件控制，可实现完全自动化，并且可以直接形成纳米结构或制作硅膜。

值得一提的是，大诺夫哥罗德策略发展机构预计，应用物理研究所将在2028年成功开发出能够生产7纳米芯片的光刻机，其性能甚至有望超越ASML同类产品。这项成果对于提升俄罗斯在半导体制造领域的地位具有重要意义。