2025-01-03 科技 0
11月4日,俄罗斯宣布正在研发光刻机,并表示最快在2024年将有成果。根据俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak的话,2024年将开始生产350nm光刻机,而2026年则计划启动用于生产130nm制程芯片的光刻机设备。这意味着俄罗斯希望改变目前全球只有日本尼康和荷兰ASML两家公司生产此类设备的现状。
目前,俄罗斯已经掌握了使用外国制造设备的65nm技术,但由于外国公司被禁止向俄罗斯出口现代光刻设备,所以该国正在努力开发自己的生产设备。此前,圣彼得堡理工大学的研究人员已经开发出了可以用于蚀刻无掩模芯片的“国产光刻复合体”,这对于解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题具有重要意义。
据介绍,这种工具成本高达500万卢布(约36.3万元人民币),另一种工具的成本未知。这些装置由专业软件控制,可实现完全自动化,并且能够直接形成纳米结构,也可制作硅膜,如舰载超压传感器。
此外,Russian Academy of Sciences旗下的应用物理研究所宣称,将会在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机,其性能将超过ASML同类产品。这表明尽管面临挑战,但俄罗斯仍然积极投入到这一领域,以提升其科技实力并减少对其他国家依赖。